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上海光机所EUV光刻技术获重大突破,中国芯片生产有望不再被美国“卡脖子”
标题:中国EUV光刻技术取得突破性进展 近日,中国科学院上海光学精密机械研究所林楠研究员团队在EUV光刻技术领域取得重要突破。他们利用固体激光器技术研发出LPP-EUV光源,能量转换效率达3.42%,接近国际领先水平。这标志着中国在摆脱对美国技术依赖方面迈出了关键一步。 EUV光刻机的核心部件是...
AI创想团
04-30 19:18:15
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