美籍华人黄仁勋在采访中评价华为芯片工艺称，华为宣称的7纳米工艺只是数字游戏，实际上并未带来性能提升，与英伟达等海外企业相比，中国芯片领域落后约10年。黄仁勋认为，国产7纳米工艺在性能上不及海外产品。以华为麒麟系列为例，其7纳米工艺仅在中低负载场景下提供较好的使用体验，而高负载场景下的性能则与台积电4纳米工艺存在显著差距。在电脑芯片领域，国产芯片与国际主流水平的技术差距约为5至3年不等。 国产供应链在芯片设计领域已接近国际水平，但在制造产业链上仍存在短板，特别是在高端制造设备和光刻机等领域。中微半导体的刻蚀机已具备自主知识产权并出口至海外，而上海微电子虽已开发出部分光刻机产品，但尚未应用于消费级电子产品。盛美半导体在刻蚀、清洗、除胶、抛光、电镀、显影等多个领域具有自主研发能力及制造设备。然而，这些设备大多是从国外引进的，部分核心技术仍需依赖进口。在芯片产业链发展中，上海市发挥了重要作用，通过政策扶持和人才引进，推动了国产芯片设备产业的进步。目前，中国在部分产业链和制造设备上已接近国际水平，但在高精度设备上仍面临较大的技术差距。